© tass.ru

МОСКВА, 22 марта. /ТАСС/. Компания-резидент ОЭЗ «Технополис Москва» создала первый фотолитограф в России с разрешением 350 нм. Об этом сообщил в Telegram-канале мэр Москвы.

«В мире меньше десяти стран, способных создавать это ключевое оборудование для производства микросхем. Теперь в их числе — Россия. Сделали важнейший шаг к переходу на собственное производство микроэлектроники и полной технологической независимости государства» — говориться в сообщении.

 © tass.ru

Мэр отметил, что фотолитограф создавался в сотрудничестве с белорусским заводом. Также мэр подчеркнул, что отечественный фотолитограф «серьезно отличается от зарубежных аналогов», так как в нем использовался твердотельный лазер в качестве излучения.

Сейчас идет разработка фотолитографа с разрешением 130 нм. Завершить его планируется в 2026 году.

Кстати, а вы знали, что на «Сделано у нас» статьи публикуют посетители, такие же как и вы? И никакой премодерации, согласований и разрешений! Любой может добавить новость. А лучшие попадут в телеграмм @sdelanounas_ru. Подробнее о том как работает наш сайт здесь👈